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Blitzlampentemperung zählt zu den Kurzzeittemperverfahren, da die Erwärmung und Abkühlung einer Schicht im Bereich von Millisekunden liegen. Mit Hilfe von Blitzlampen durchgeführte Temperung dient zur oberflächennahen Erwärmung. Hierbei handelt es sich um einen thermischen Prozess, der Materialeigenschaften verändern kann. Durch die Blitzlampentemperung kann der Schichtwiderstand von transparenten leitfähigen Oxidschichten reduziert und die Transmission im sichtbaren Wellenlängenbereich erhöht werden. In der vorliegenden Forschungsarbeit wird das Prozessverhalten von dynamischen Prozessen bei Indium-Zinn-Oxid Schichten experimentell dargelegt. Dazu wurde der Einfluss von verschiedenen Prozessparametern wie Energiedichte und Pulszeit eines Blitzes erforscht. Für Schichten mit einer Schichtdicke von 150 nm konnte nach der Behandlung ein Widerstand von 14 erreicht werden. Für die Transmission im sichtbaren Wellenlängenbereich wurden 87 % erzielt.
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Implementierung eines Moduls zur großflächigen In-Line Blitzlampentemperung von gesputterten ITO-Schichten, Jasper Westphalen
- Język
- Rok wydania
- 2021
- Oprawa
- (miękka)
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- Tytuł
- Implementierung eines Moduls zur großflächigen In-Line Blitzlampentemperung von gesputterten ITO-Schichten
- Język
- niemiecki
- Autorzy
- Jasper Westphalen
- Wydawca
- Universitätsverlag Ilmenau
- Rok wydania
- 2021
- Oprawa
- miękka
- Liczba stron
- 120
- ISBN13
- 9783863602437
- Seria
- Tagi
- Opis
- Blitzlampentemperung zählt zu den Kurzzeittemperverfahren, da die Erwärmung und Abkühlung einer Schicht im Bereich von Millisekunden liegen. Mit Hilfe von Blitzlampen durchgeführte Temperung dient zur oberflächennahen Erwärmung. Hierbei handelt es sich um einen thermischen Prozess, der Materialeigenschaften verändern kann. Durch die Blitzlampentemperung kann der Schichtwiderstand von transparenten leitfähigen Oxidschichten reduziert und die Transmission im sichtbaren Wellenlängenbereich erhöht werden. In der vorliegenden Forschungsarbeit wird das Prozessverhalten von dynamischen Prozessen bei Indium-Zinn-Oxid Schichten experimentell dargelegt. Dazu wurde der Einfluss von verschiedenen Prozessparametern wie Energiedichte und Pulszeit eines Blitzes erforscht. Für Schichten mit einer Schichtdicke von 150 nm konnte nach der Behandlung ein Widerstand von 14 erreicht werden. Für die Transmission im sichtbaren Wellenlängenbereich wurden 87 % erzielt.